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1、 特性
1)LMR在Deep UV 光下有极高的感光度、灵敏性及解像性。是显像突出的负性感光抗蚀剂。
2)FSMR在制版时用1线。
3)LMR,FSMR能蚀刻难于蚀刻的Al, Pt, Ti 等,也适合GaAs基板的处理。
5)烘烤
在热风恒温干燥中,用100±2℃的温度,烤30分钟或者用电炉在100±2℃的温度烤10分钟。
6)显像、洗涤
浸渍、喷雾等后显像形成,在基板表面可以确认时,可调整到最好。
FSMR使用FSMR显像液C类型,温度为23℃,时间为60秒。
洗涤时,使用各专用的洗涤液,温度23℃,时间90秒。
7)等离子体
圆柱形等离子体在基板上加热(02,200W,0. 1Torr,15秒)。
通常100℃以下,max. 140℃。
8) Lift-off process
基板遇热温度Temparature of bakin Below 110℃ 110-140℃ 140-200℃
剥膜液Remover Acetone or DMF LMR remover asher